2021-10-19 09:26:29 索煒達(dá)電子 1104
項(xiàng)目編號：E1562
文件大?。?.48M
源碼說明：帶中文注釋
開發(fā)環(huán)境：C編譯器
簡要概述：
金屬探測器是專門用來探測金屬的儀器。廣泛應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)、安檢、娛樂等領(lǐng)域。這里我們設(shè)計(jì)的是一個(gè)基于單片機(jī)的手持金屬探測器。它可以檢測到人隨身攜帶的金屬物品，如小刀、鋼筆甚至可以檢測到硬幣?？呻S身攜帶，使用方便。
金屬探測是根據(jù)電磁感應(yīng)原理制成的，將一金屬置于變化的磁場當(dāng)中時(shí)，根據(jù)電磁感應(yīng)原理就會在金屬內(nèi)部產(chǎn)生渦流，渦流產(chǎn)生的磁場反過來又影響原磁場，這種變化可以轉(zhuǎn)換為電壓幅值的變化，供相關(guān)電路進(jìn)行檢測。它也可以表現(xiàn)為振蕩電路頻率的變化，用檢測頻率的辦法進(jìn)行檢測，這里使用的是前者，振蕩部分由555振蕩器振蕩電路組成，產(chǎn)生的方波信號通過線圈電路，產(chǎn)生相應(yīng)的交變磁場。無金屬存在時(shí)此磁場為相對穩(wěn)定的交變磁場，當(dāng)有金屬物體存在時(shí)，將會在金屬中產(chǎn)生渦流效應(yīng)，渦流又會產(chǎn)生與原磁場方向相反的磁場，并對總磁場有影響。通過將測得的實(shí)際磁場與預(yù)先測得并設(shè)定的存在金屬時(shí)的磁場進(jìn)行比較，就可實(shí)現(xiàn)對金屬的探測。
為了實(shí)現(xiàn)上述功能，本次金屬探測器分為控制模塊、震蕩模塊、檢測放大模塊、峰值檢波模塊、A/D轉(zhuǎn)換模塊以及報(bào)警模塊，并對各模塊進(jìn)行了專業(yè)仿真與實(shí)驗(yàn)，效果很好。
此外,文中還對影響金屬探測器的靈敏度與穩(wěn)定性的因素進(jìn)行了探討,認(rèn)為儀器的工作頻率、檢測線圈的尺寸及匝數(shù)等是影響靈敏度的主要因素;而應(yīng)用現(xiàn)場的環(huán)境溫度、濕度及線圈的制作工藝和供電電源的穩(wěn)定程度是儀器穩(wěn)定性的影響因素。
設(shè)計(jì)報(bào)告：
目錄│文件列表:
└ 金屬探測器課程設(shè)計(jì)
│ Previous Backup of Metal Detector.Sch
│ 手持式金屬探測器.SCHDOC
│ 測控1204-張晨-課程設(shè)計(jì)論文.docx
└ 測試
├ 各單元電路仿真實(shí)驗(yàn)
│ ├ 仿真程序
│ │ │ 系統(tǒng)仿真
│ │ │ 系統(tǒng)仿真.c
│ │ │ 系統(tǒng)仿真.hex
│ │ │ 系統(tǒng)仿真.lnp
│ │ │ 系統(tǒng)仿真.LST
│ │ │ 系統(tǒng)仿真.M51
│ │ │ 系統(tǒng)仿真.OBJ
│ │ │ 系統(tǒng)仿真.Opt
│ │ │ 系統(tǒng)仿真.plg
│ │ │ 系統(tǒng)仿真.Uv2
│ │ │ 系統(tǒng)仿真_Opt.Bak
│ │ └ 系統(tǒng)仿真_Uv2.Bak
│ ├ 單片機(jī)+采集仿真
│ │ │ Last Loaded 單片機(jī)+采集放大+555震蕩.DBK
│ │ │ Last Loaded 單片機(jī)+采集放大.DBK
│ │ │ Last Loaded 單片機(jī).DBK
│ │ │ 單片機(jī)+采集放大+555震蕩.DSN
│ │ │ 單片機(jī)+采集放大+555震蕩.PWI
│ │ │ 單片機(jī)+采集放大.DSN
│ │ │ 單片機(jī)+采集放大.PWI
│ │ │ 單片機(jī).DSN
│ │ └ 單片機(jī).PWI
│ ├ 可用電路備份
│ │ │ Last Loaded 單片機(jī)+采集放大+555震蕩.DBK
│ │ │ Last Loaded 峰值檢波(親測可用).DBK
│ │ │ Last Loaded 直流粗糙二級放大（誤差10%）.DBK
│ │ │ 交流放大+檢波（基本可用）.DSN
│ │ │ 交流放大+檢波（基本可用）.PWI
│ │ │ 單片機(jī)+采集放大+555震蕩.DSN
│ │ │ 單片機(jī)+采集放大+555震蕩.PWI
│ │ │ 峰值檢波(親測可用).DSN
│ │ │ 峰值檢波(親測可用).PWI
│ │ │ 直流粗糙二級放大（誤差10%）.DSN
│ │ │ 直流粗糙二級放大（誤差10%）.PWI
│ │ └ 仿真程序
│ │ │ 系統(tǒng)仿真
│ │ │ 系統(tǒng)仿真.c
│ │ │ 系統(tǒng)仿真.hex
│ │ │ 系統(tǒng)仿真.lnp
│ │ │ 系統(tǒng)仿真.LST
│ │ │ 系統(tǒng)仿真.M51
│ │ │ 系統(tǒng)仿真.OBJ
│ │ │ 系統(tǒng)仿真.Opt
│ │ │ 系統(tǒng)仿真.plg
│ │ │ 系統(tǒng)仿真.Uv2
│ │ │ 系統(tǒng)仿真_Opt.Bak
│ │ └ 系統(tǒng)仿真_Uv2.Bak
│ ├ 檢測+交流放大+峰值檢波
│ │ │ Last Loaded 峰值檢波(有反應(yīng)，但效果不明顯).DBK
│ │ │ 峰值檢波(有反應(yīng)，但效果不明顯).DSN
│ │ │ 峰值檢波(有反應(yīng)，但效果不明顯).PWI
│ │ │ 檢測+交流放大+峰值檢波(失敗).DSN
│ │ └ 檢測+交流放大+峰值檢波(失敗).PWI
│ ├ 線圈電路仿真
│ │ │ Last Loaded 線圈部分.DBK
│ │ │ 線圈部分.DSN
│ │ └ 線圈部分.PWI
│ └ 采集放大電路
│ │ Last Loaded 小信號單級放大（20倍+0.04V）.DBK
│ │ Last Loaded 粗糙二級放大（誤差10%）.DBK
│ │ 可調(diào)雙極（x10,x5）放大.DSN
│ │ 可調(diào)雙極（x10,x5）放大.PWI
│ │ 小信號單級放大（20倍+0.04V）.DSN
│ │ 小信號單級放大（20倍+0.04V）.PWI
│ │ 粗糙二級放大（誤差10%）.PWI
│ │ 粗糙二級放大（誤差10%）（優(yōu)先采用）.DSN
│ └ 粗糙二級放大（誤差10%）（優(yōu)先采用）.PWI
├ 完善電路實(shí)驗(yàn)
│ │ Last Loaded 雙極放大嘗試1.DBK
│ │ Last Loaded 毫伏級交流放大.DBK
│ │ 雙極放大嘗試1.DSN
│ │ 雙極放大嘗試1.PWI
│ │ 雙極放大，可放大范圍廣，但是方法倍數(shù)不足，100mV放大至2V左右，且底部完全失真.DSN
│ │ 雙極放大，可放大范圍廣，但是方法倍數(shù)不足，100mV放大至2V左右，且底部完全失真.PWI
│ │ 可調(diào)雙極（x10,x5）放大.DSN
│ │ 可調(diào)雙極（x10,x5）放大.PWI
│ │ 毫伏級交流放大.DSN
│ │ 毫伏級交流放大.PWI
│ │ 毫伏級交流放大10倍.DSN
│ └ 毫伏級交流放大10倍.PWI
└ 源程序電路失敗
│ Last Loaded 測試仿真.DBK
│ 測試
│ 測試.c
│ 測試.hex
│ 測試.lnp
│ 測試.LST
│ 測試.M51
│ 測試.OBJ
│ 測試.plg
│ 測試.uvopt
│ 測試.uvproj
│ 測試_uvopt.bak
│ 測試_uvproj.bak
│ 測試仿真.DSN
└ 測試仿真.PWI
